北京鼎泰芯源科技发展有限公司 main business:技术开发、技术服务、技术转让、技术咨询、技术推广；产品设计；模型设计；经济信息咨询；文化咨询；公共关系服务；市场调查；企业管理咨询；自然科学研究与试验发展；工程和技术研究与试验发展。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。） and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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- 110108022157211
- 91110108MA008N353N
- 开业
- 有限责任公司(自然人投资或控股)
- 2016年10月10日
- 张娜斯
- 111.000000
- 2016年10月10日 至 2036年10月09日
- 北京市工商行政管理局海淀分局
- 2017年08月14日
- 北京市海淀区海淀大街3号楼B座10层340
- 技术开发、技术服务、技术转让、技术咨询、技术推广；产品设计；模型设计；经济信息咨询；文化咨询；公共关系服务；市场调查；企业管理咨询；自然科学研究与试验发展；工程和技术研究与试验发展。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN106553276A | 一种碳化硅晶体偏角度加工的定向夹具 | 2017.04.05 | 本发明涉及一种碳化硅晶体偏角度加工的定向夹具，属于晶体加工装置领域。所述定向夹具包括：旋转滑台，固定 |
| 2 | CN106521615A | 一种基于VGF法的InP晶体生长炉 | 2017.03.22 | 本发明公开了一种基于VGF法的InP晶体生长炉，属于半导体晶体生长设备技术领域。本发明所述InP晶体 |
| 3 | CN106498487A | 熔区附加磁场装置及具有其的VGF单晶生长炉 | 2017.03.15 | 本发明提供了一种熔区附加磁场装置及具有其的VGF单晶生长炉，所述磁场装置包括磁体及内外导磁板，套设于 |
| 4 | CN106435742A | 退火设备及其退火工艺 | 2017.02.22 | 本发明公开了一种退火设备及其退火工艺，包括加热保护元件、内部开有凹槽的上保温腔体和下保温腔体以及升降 |
| 5 | CN106400102A | 一种可实现单晶在线退火的生长设备及其方法 | 2017.02.15 | 本发明提供了一种可实现单晶在线退火的生长设备及其方法，所述生长设备包括：炉体、充气系统、真空系统、排 |
| 6 | CN106409730A | 非接触式晶圆退火装置及其退火方法 | 2017.02.15 | 本发明公开了一种非接触式晶圆退火装置及其退火方法，所述退火设备包括晶圆、气浮载台、光源、红外测温探头 |
| 7 | CN106381524A | 一种基于原位合成法的InP单晶炉用观察窗装置 | 2017.02.08 | 本发明提供一种基于原位合成法的InP单晶炉用观察窗装置，包括贯穿炉体内外的观察通道，观察通道出口处设 |
| 8 | CN106381525A | 一种基于VGF法的减少InP晶体孪晶的装置 | 2017.02.08 | 本发明公开了一种基于VGF法的减少InP晶体孪晶的装置，包括，外部的炉体以及内部的同轴坩埚，隔热屏， |
| 9 | CN106367812A | 一种提高碳化硅粉源径向温度均匀性的石墨坩埚 | 2017.02.01 | 本发明涉及一种提高碳化硅粉源径向温度均匀性的石墨坩埚，属于半导体芯片单晶制备技术领域。所述石墨坩埚包 |
| 10 | CN106340487A | 用于晶圆退火的载片盘、退火装置及晶圆退火方法 | 2017.01.18 | 本发明提供一种用于晶圆退火的载片盘、退火装置及晶圆退火方法，载片盘包括基板和位于基板上的多个凸起。退 |
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